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硝酸铈铵是铬掩模版蚀刻液的主要组成成分

来源:本站 时间:2018-11-20 18:22:27

在半导体器件制作中,光罩是常用的工具之一,光刻技术应用于光敏感胶,它作为一种聚合可溶解物被涂在金属衬底或玻璃表面,然后光刻胶被烘焙除去溶剂,再将其电子束或激光光束曝光,然后进行化学处理,如显影、蚀刻等工艺。

早期蚀刻液与铬膜反应较慢,蚀刻不均匀,进口原液反应时间较快,蚀刻均匀,但是进口原液价格非常昂贵,高昂的价格造成掩模版后续制程投入非常大,大大增加了制程成本。现发现一种气体挥发少、成本低、蚀刻效果好的蚀刻液,其组成有硝酸铈铵、高氯酸和水组成,采用上述配比的蚀刻液进行刻蚀后,版材蚀刻线条质量好,线性较好,缺陷数目较少,可以与进口的原液相媲美。


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